Atık ve Tehlikeli Gaz Tutucu ve Arıtıcı Sistemleri

Core Crystal Ltd. Atık proses gazlarının indirgenmesi, insan ve çevre sağlığına zararsız hale getirilmesi konusunda kimyasal emilim teknolojisini kullanan atık gaz yönetimi sistemleri sağlayıcısı ve alanında lider firmalardan olan CS CLEAN SOLUTIONS firmasının Türkiye deki çözüm ortağıdır. 

CLEANSORB dry absorber sistemleri elektrik, su veya başka tür bir yakıta gereksinim duymaz. Bunun yanında değerli su kaynaklarını atık suyla kirletmez ve çevre dostudur. 

TEKNOLOJİ

CLEANSORB granül teknolojisi tehlikeli atık gazları tipik ortam sıcaklıklarında stabil inorganik tuzlara dönüştürür. En üstün ve çevre dostu atık gaz yönetimi teknolojisidir.  Farklı CLEANSORB model ve boyutları ile küçük ölçekli üniversite araştırma laboratuvarlarından büyük ölçekli yarı iletken yonga üreticilerine kadar geniş bir aralıktaki müşteri ihtiyaçlarına cevap verebilecek nitelikte hizmet, servis ve ürün sunulmaktadır. 

KAPASİTE 

Tipik olarak bir kolon CLEANSORB granülü birkaç bin litre tehlikeli gazı Kimyasal olarak bağlayıp güvenli ve katı yan ürüne dönüştürebilir. İhtiyaç, tüketim ve proses uygulamalarına göre en optimum çözümleri müşterilerimize sunmaktayız.

TEKRAR DOLUM SERVİSİ

Kullanılmış CLEANSORB kolonlarının doğrudan atılmasına gerek yoktur. Bunun yerine Core Crystal tarafından taze yeni granüller ile minimum atık oluşturacak şekilde yeniden doldurulup servise verilir. 

GAZ TEMİZLEME ÇÖZÜMLERİMİZ

  • CLEANSORB dry bed : Atık proses gazlarının giderilmesi
  • CLEAN-PROTECT : Acil durum gaz kaçaklarına karşı güvenlik tedbiri
  • CLEANVENT: Gaz kabini havalandırma hatları için mini kartuş

   

Proses Uygulama Kullanılan Tipik Gazlar ve Sıvı Prekürsörler
Plazma Aşındırma  
Metal Aşındırma Cl2, BCl3, HCl, CF4, SF6
Poly Silicon Aşındırma Cl2, HBr, Br2, SF6, CF4, NF3, C4F8
Nitrür Aşındırma, Oksit Aşındırma CF4, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, CH2F2, NF3, SF6, O2
Tungsten Etchback SF6
Ion Implantation  
High, Medium, Low AsH3, PH3, BF3, P, As, Sb, Sb(CH3)3, GeH4, GeF4
ALD, LPCVD, PECVD, HDP-CVD  
TEOS, undoped TEOS, O2, O3
BPSG TEOS, O3, TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6
Poly-Si (doped) SiH4, (AsH3, PH3)
Silicon Germanium SiH4, GeH4
Oxide SiH4, O2
Nitride, doped SiH4, NH3, (TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6)
Oxynitride, doped SiH4, NH3, N2O, (TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6)
Low-k dielectrics 1MS, 2MS, 3MS, 4MS, DMDMOS
High-k dielectrics TMA, TEMAH, TDEAH, TAETO, PET
Gate Electrodes MPA, Ru(Etcp)2, PEMAT
Copper CVD Cu(hfac)(TMVS)
Tungsten (Silicide) WF6, SiH4, H2, (DCS)
Barrier Layers TiCl4, NH3, TDMAT, PDMATa, PDEATa, TAETO, W(CO)6
Plasma Chamber Cleaning  
PFC plasma C2F6, C4F8, NF3
Remote NF3 plasma F2
Epitaxy  
Silicon (doped) DCS, TCS, SiH4, (AsH3, PH3, B2H6)
Silicon-Germanium SiH4, GeH4, CBr4, 1MS, 2MS, 3MS, HCl
Silicon-Carbide (SiC) SiH4, CH4, C3H8, TMA, HCl
Compound Semiconductors, Optoelectronics, III-V on Si  
GaAs, InP MOVPE (MOCVD) TMGa, AsH3, TBA, TMIn, PH3, TBP
GaN MOVPE (MOCVD) TMGa, NH3, UDMH
MBE (MOMBE) Cl2, BCl3, HBr, SiF4, SF6, CH4, GaCl3, InCl3, AsH3, O2
Photovoltaics  
Concentrator Photovoltaics PH3, AsH3, metalorganics, SiH4, GeH4
CIGS H2S, H2Se
Gas Supply  
Emergency Gas Release Absorbers Toxics, Pyrophorics, Corrosives
Gas Cabinet Purging  

İhtiyaçlarınıza yönelik doğru scrubber (gaz tutucu) sistemini seçmek için bizimle iletişime geçin!
(info@corecrystal.com veya servis@corecrystal.com)
Proses Bilgi Formuna buradan ulaşabilirsiniz.